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薄膜シート抵抗測定装置(CAPRES社)

正確な薄膜シート抵抗測定の必要性

今日のナノテクノロジーによるエレクトロニクスの微細化、薄膜化により、抵抗分布測定においても微小プローブを使いバルクの影響を排除した正確な薄膜シート抵抗測定の必要性が高まってきております。

  • 従来のマクロ4端子では数ミリ以上の大きな範囲でしか測定出来ず、表面に深く針を突き刺す破壊測定なのでマイクロレベルの微小領域の測定や薄膜の測定は実施不可能でした。
  • 本装置は精密位置決め制御技術やプローブ顕微鏡電流測定技術、及びマイクロ・ナノ12端子・4端子法を利用、薄膜・微小領域のシート抵抗測定装置として開発され、MRAM、MEMS、半導体メモリーの品質評価の標準ツールとして世界的な規模で半導体ファウンドリ、装置メーカー、大学・研究機関等に幅広い納入実績を達成しています。

 

 

ナノプローブ(最小ピッチ750nm)

 

CIPTech/microRSP/microHallシリーズ

  • マイクロ4端子による薄膜シート抵抗測定・評価システム
  • グローバルベースでの大手半導体ファウンドリ・研究所・大学への納入実績
  • プロダクションウェハでのダイレクト測定、エッジ近傍のローカル測定が可能
  • マイクロ7端子を使い、シート抵抗以外にホール移動度、キャリア密度の測定にも対応
  • アプリケーション:MEMS膜、CVD・ALD形成膜の評価解析、STT-MRAMの評価開発

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